K&F Concept NANO-X series MCUV + CPL szűrő + fém objektívsapka 77mm (KF-1665)
A K&F Concept NANO-X series MCUV + CPL szűrő egy kiváló minőségű és sokoldalú kiegészítő, amely segít a fotósoknak a maximális képminőség elérésében. Az MCUV szűrő csökkenti az ultraibolya fényt, ami különösen hasznos lehet nagy magasságokban vagy ahol erős UV sugárzás érvényesül. A CPL vagy polárszűrő pedig eltávolítja a nem kívánt visszaverődéseket és megnöveli a kép kontrasztját, így élénkebb és részletesebb fotókat készíthetünk.
Termékparaméterek
- Átmérő: 77 mm
- Típus: MCUV + CPL szűrő plusz fém objektívsapka
- Anyag: Magas minőségű optikai üveg és fém
- Rétegek: Több rétegű bevonatok a maximális fényáteresztés érdekében
- Súly: 80 g
- Víz- és karcálló bevonat: Igen
- Könnyű tisztíthatóság: Igen
- Antireflexiós kezelés: Igen
- Polarizációs arány: 99,9%
- Márkanév: K&F Concept
- Sorozat: NANO-X
- Modell: KF-1665
A szűrő tartós fém kerettel rendelkezik, amely biztosítja, hogy hosszú távon is ellenáll a kopásnak és sérüléseknek. A fém objektívsapka a szűrők mellé jár, így tökéletes védelmet nyújt az objektív számára, ha épp nem használja.
A K&F Concept NANO-X szűrők fejlett több rétegű bevonattal rendelkeznek, amely rendkívül magas fényáteresztéssel bír, minimalizálva az optikai torzulásokat és maximalizálva a kép élességét. A szűrők víz- és karcállóak, így nem kell aggódnia az időjárási körülmények miatt, akár esőben, akár hóban fotóz.
Ezek a szűrők különösen hasznosak tájképek, épületek, és vízfelületek fotózásánál, mivel segítenek eltávolítani a nemkívánatos visszaverődéseket és növelni a kép kontrasztját és élességét. Ideálisak mind amatőr, mind professzionális fotósok számára, akik a legjobb eredményeket kívánják elérni.
Előnyök
- Magas polarizációs arány a tisztább és élesebb fotókért
- Víz- és karcálló bevonat a hosszabb élettartam érdekében
- Több rétegű bevonat a minimális fényveszteségért és maximális fényáteresztésért
- Könnyedén tisztítható és karbantartható
- Tartós fém keret az extra védelemért
- Fém objektívsapka a teljes védelem érdekében
